| 차시 | 차시명 | 시간 | 샘플강의 |
|---|---|---|---|
| 1차시 | CMP란 | 11분4초 | |
| 2차시 | CMP 공정의 도입 배경 및 역사(1) | 13분2초 | |
| 3차시 | CMP 공정의 도입 배경 및 역사(2) | 15분55초 | |
| 4차시 | CMP 원리의 화학적, 물리적 이해(1) | 14분56초 | |
| 5차시 | CMP 원리의 화학적, 물리적 이해(2) | 16분36초 | |
| 6차시 | 전체공정 이해를 통한 CMP 역할의 이해(1) | 11분35초 | |
| 7차시 | 전체공정 이해를 통한 CMP 역할의 이해(2) | 17분5초 | |
| 8차시 | Defect의 종류와 원인 및 해결방안(1) | 11분15초 | |
| 9차시 | Defect의 종류와 원인 및 해결방안(2) | 14분54초 | |
| 10차시 | Defect의 종류와 원인 및 해결방안(3) | 21분11초 | |
| 11차시 | Dielectric material CMP | 17분44초 | |
| 12차시 | Shallow Trench Isolation(STI) CMP | 15분9초 | |
| 13차시 | Tungsten(W) CMP | 11분4초 | |
| 14차시 | Copper(Cu) CMP | 12분10초 | |
| 15차시 | CMP - Key chemicals in metal CMP | 19분18초 | |
| 16차시 | CMP - ULK of CMP | 12분24초 | |
| 17차시 | CMP - Post CMP cleaning | 13분45초 | |
| 18차시 | CMP - CMP후 waste의 처리 | 12분12초 | |
| 19차시 | CMP - 측정 및 분석 장비1 | 13분59초 | |
| 20차시 | CMP - 측정 및 분석 장비2 | 12분4초 | |
| 21차시 | CMP - 반도체와 CMP 기술 발전의 미래 전망 | 14분28초 |
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