| 차시 | 차시명 | 시간 | 샘플강의 |
|---|---|---|---|
| 1차시 | Prologue - Patterning 과정 | 30분8초 | |
| 2차시 | Prologue - Wafer Fabrication(1)_공정흐름도 해석하기 | 30분34초 | |
| 3차시 | Prologue - Wafer Fabrication(2)_공정흐름도 해석하기 | 36분35초 | |
| 4차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(1) | 31분20초 | |
| 5차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(2) | 32분6초 | |
| 6차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(3) | 29분10초 | |
| 7차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(4) | 30분37초 | |
| 8차시 | 확산장비 Set-Up하기 – SiO2 Growth | 30분5초 | |
| 9차시 | 확산장비 Set-Up하기 – SiO2 Growth Equipment(1) | 28분7초 | |
| 10차시 | 확산장비 Set-Up하기 – SiO2 Growth Equipment(2) | 29분57초 | |
| 11차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation(1) | 29분42초 | |
| 12차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation(2) | 29분6초 | |
| 13차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation Application(1) | 30분58초 | |
| 14차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation Application(2) | 33분3초 |
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