| 차시 | 차시명 | 시간 | 샘플강의 |
|---|---|---|---|
| 1차시 | plasma 기초 (1) | 29분31초 | |
| 2차시 | Plasma 기초 (2) | 25분8초 | |
| 3차시 | plasma 기초 (3) | 27분54초 | |
| 4차시 | plasma 기초 (4) | 26분20초 | |
| 5차시 | plasma 기초 (5) | 29분10초 | |
| 6차시 | 기체 분자 운동론과 Vacuum (진공) (1) | 26분44초 | |
| 7차시 | 기체 분자 운동론과 Vacuum (진공) (2) | 30분24초 | |
| 8차시 | plasma 형성 방법 (1) | 25분56초 | |
| 9차시 | plasma 형성 방법 (2) | 25분48초 | |
| 10차시 | Plasma 사용 공정 - Dry Etch (1) | 28분53초 | |
| 11차시 | Plasma 사용 공정 - Dry Etch (2) | 29분41초 | |
| 12차시 | Plasma 사용 공정 - Dry Etch (3) | 27분26초 | |
| 13차시 | Plasma 사용 공정 - PECVD | 30분16초 | |
| 14차시 | Plasma 사용 공정 - PVD (Sputtering) | 31분29초 | |
| 15차시 | Plasma 사용 공정 - Doping | 28분37초 |
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