chlf***님이 작성하신 수원대 42기 반도체 실습후기
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clean room에 들어가기 전 air shower를 하는 단계입니다. 실무에서는 class 1정도 되지만, 수원대학교에서 지금 정화장치 교체 전이라 조금 오염된 class 100정도라고 하셨습니다.
산화막을 입히는 과정인데, 6시간정도 소요되므로, 조교님들이 전날 전부 SiO2를 입혀놓았습니다. 이 과정에서 dummy w/f의 용도와 필요성을 알 수 있었습니
w/f에 접착제와 PR코팅을 하는 단계입니다. Spin machine으로 rpm을 조절해가며 과정이 이루어지고, 과정 후 옆에 있는 dry 기계로 건조를 시켜줍니다. 용액의 양에 따라 결과물에 차이가 있겠죠 exposure 단계로, 배열과 함께 진행되는데 저희는 간단하고 작은 pattern으로 배열은 생략하였습니다. 하지만, 배열을 하는 목적과 실무에서의 과정을 배울 수 있었습니다. 1일차 실습은 노광작업까지 하였습니다. etching과정으로, develop, wet etching, pr stripe을 진행했습니다. 점점 패턴들이 눈에 보이는 게 신기했고, 이 과정에서 rework을 하는 실습생들도 있었습니다. 산화막의 두께 문제로, etching 과정의 연장이 필요했었습니다. 실습 종료후 RF Sputter 기계를 설명해 주셨습니다. 직접 다루진 않았지만, 내부 부품을 보여주면서 이론을 정리해주셨습니다. 다른 기계와 차이를 예로 들어 설명해 주셨지만, 직접 보고, 해보지 못해 와닿진 않았습니다.
완성된 w/f 입니다. 교수님이 하셨던 w/f인데, 이런 모양으로 실무에서 30단~으로 쌓아올린다고 합니다.
실습을 통해 반도체에 더 가까워지는 계기가 되었고, 2일이라는 실습 기간이 아쉬웠습니다. 교수님도 7일정도면 괜찮다고 하셨는데, 앞으로 수원대와 조절하여 실습 기간이 좀 더 길어졌으면 하는 바람이 있습니다.
chlf***님이 2018-07-17에 작성하신 후기입니다.
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